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晶瑞股份引進行業高端人才，布局半導體光刻膠逐步提速

來源：互聯網2021年08月05日

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作為半導體光刻核心耗材，光刻膠國產化率明顯偏低，其市場主要被日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、信越化學、陶氏化學等所主導。而在去年的新一輪《瓦森納協定》修訂中，增加了兩條有關半導體領域的出口管制內容，主要涉及光刻軟件以及12英寸晶圓技術，目標直指中國正在崛起的半導體產業。

新版《瓦森納協定》中雖然沒有直接指出對半導體光刻膠的限制，但EUV光刻技術確在限制條款中，KrF和ArF光刻膠是光刻工藝用量最大的關鍵材料，與之休戚相關。這也導致了近年來資本不斷加碼國產光刻膠主要玩家，國內晶圓廠也加速國產光刻膠的驗證和試產導入。

據晶瑞股份年報披露，公司i線光刻膠已實現供貨中芯國際、合肥長鑫等國內FAB廠，KrF光刻膠完成中試，建成了中試示范線，且在去年斥巨資購買了ASMLXT1900 Gi型ArF浸入式光刻機正加速推進Arf光刻膠的研發體系，其子公司蘇州瑞紅是我國半導體光刻膠規模最大和歷史最悠久的光刻膠公司。

與此同時，晶瑞股份還在積極引入核心人才，在高端光刻膠領域吸引了行業資深人才的加盟。

8月1日，據晶瑞股份披露，為加強光刻膠事業部整體實力，加快光刻膠產品的推進速度，抓住行業發展的歷史性機遇，公司近年來，持續加大在G/I線光刻膠進一步擴大市場占有率、KrF光刻膠的產業化實施、ArF光刻膠的研發等方面的投入力度。

晶瑞股份表示，近期，公司有幸邀請到陳韋帆先生加入光刻膠事業部，并擔任總經理職務。陳韋帆先生深耕半導體行業近20年，其在一家知名的光刻膠企業任職近10年，在高端光刻膠產品的技術研發、市場開拓及評價實施上擁有豐富經驗。此次陳韋帆先生的加入將會大力提高公司在高端光刻膠的研發及市場推廣的速度。

除此之外，晶瑞股份的高端光刻膠研發的再融資項目已于日前正式獲得批文，該項目為由晶瑞牽頭發起的超大規模集成電路用高端光刻膠技術攻關及產業化工程的攻關任務之一，旨在通過自主研發，打通ArF光刻膠用樹脂的工藝合成路線，完成ArF光刻膠用樹脂的中試示范線建設，滿足自身ArF光刻膠的性能要求。

可以顯見，晶瑞股份在資本的不斷助力下，近期又引入光刻膠核心人才，公司在光刻膠領域的整體實力以及全局部署規劃的逐步提速，獲得行業和市場看好。相信未來隨著晶瑞在光刻膠產品的持續大力投入，有望解決我國高端半導體光刻膠卡脖子的現狀，值得期待。